茅ケ崎市で特許事務所をお探しの事業者様、特許出願や意匠・商標登録出願は IPdash東京特許事務所にお任せください！

特許の申請（特許出願）

IPdash東京特許事務所の特許出願は、以下の特長があります。

・高い特許取得率
・分かりやすい総額料金体系
・生成AI、メタバースなど最新技術の特許取得実績

IT・IoT分野［生成AI、機械学習、ウェブサービス、スマホ用アプリケーション、メタバース・XR（クロスリアリティ）、その他各種ソフトウェア・プログラムなど］の特許出願を主に取り扱っています。機械や化学分野の出願にも対応いたします。

上記リンク先でIT関連特許の取得例をご覧いただけます。
業務のオンライン化など、DX（デジタルトランスフォーメーション）で実績があります。

無料相談を承っておりますので、お気軽にお問い合わせください。

商標登録の申請（商標登録出願）

IPdash東京特許事務所の商標登録出願は、以下の特長があります。

・高い商標登録率
・ビジネスニーズに合わせた迅速な出願
・指定商品等の詳細検討による広い権利範囲

オンライン面談を承っておりますが、商標登録出願はメールでもご依頼いただけます。
「商標」と「商品またはサービス名」をご指定ください。

指定商品等が分からない場合でも弊所がご提案します。商標登録はお任せください。

出願にかかる費用について

IPdash東京特許事務所は、「日本一 費用が明瞭な事務所」を目指しています。

・特許出願が初めての方も安心の『総額料金体系』です！

・初回相談が完全無料です。

・オンラインミーティングなどを活用することで、明細書の品質を維持しながらコスト削減を行っているため、リーズナブルな事務所費用となっています。

・お客様の負担を軽減すべく、減免制度などを積極的に活用しています。

（特許の場合）
　ほとんどの中小企業の場合、通常15～20万円はかかる特許出願の出願審査請求料（特許庁費用）が半額以下になります。
　特に創業10年以内のベンチャー企業・スタートアップ企業は通常、出願審査請求料が2/3免除されます。

料金の例

詳細は料金表のページをご確認ください。
(ボタンをクリックすると料金表のページを表示します。)

IPdash東京特許事務所について

特許取扱分野
　IT・ソフトウェア、ビジネスモデル、化学、機械

弊所の強み
・先端IT技術（生成AI、仮想現実など）の特許取得実績
・固定費削減努力による、お求めやすいサービス料金
・明瞭な総額料金表示
・初めての方でもわかりやすい説明
・専用ソフトを用いた技術調査と類似発明の発見力

代表プロフィール

代表
　留場 恒光（とめば ひさみつ）

略歴
　東北大学 理学部 卒業
　東北大学大学院 理学研究科 卒業（博士）
　富士フイルム株式会社 12年勤務（在職中に弁理士資格取得）

資格等
　弁理士・理学博士
　日本弁理士会（JPAA）認定 知財経営コンサルタント
　応用情報技術者など

役職等

　2022年-2024年 日本弁理士会関東会
　2024年 東京委員会 副委員長

　2023年-2024年 東京農工大学 非常勤講師 「知的財産権・特許法」※
　2023年-2024年 東京商工会議所 専門相談員

　2024年 文部科学省・特許庁・日本弁理士会・INPIT主催 (WIPO後援) パテントコンテスト 指導弁理士

※資料を公開しておりますので、よろしければご高覧ください（無料公開 セミナー資料）。

一貫して弁理士が対応します。
茅ケ崎市で特許権や商標権の取得をお考えの方は、気軽にお問い合わせください。

特許や商標の出願が初めての方でも丁寧に説明します。初回相談無料です。

オンラインによる打ち合わせが便利です。
繫忙期などを除き、即日から対応させていただきます。

また、すべての手続をオンラインで進めることも可能です。

お客様の声

弊所がこれまでにいただきましたお客様の声の一部をご紹介します。

クリックでカードが拡大表示されます。

・特許

・商標

多くの感謝の声をいただいております。
お客様からいただいた声を励みにIPdash東京特許事務所はさらに成長し、よりよいサービスをお客様に提供いたします。

神奈川県茅ケ崎市の特許出願傾向

2016年から2018年までにおける茅ケ崎市の特許出願数は624件でした。
（2020年6月調べ・2019年、2020年分は未公開出願が多いため除く）

技術分野別トップ５

１位：215件：被覆形成材料の真空蒸着，スパッタリングまたはイオン注入法による被覆：C23C14
２位：154件：半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に適用される方法または装置：H01L21
３位：39件：ガス状化合物の分解による化学的被覆であって，表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの，すなわち化学蒸着（ＣＶＤ）法：C23C16
４位：38件：プラズマの生成；プラズマの取扱い：H05H1
５位：28件：耐火金属の採取：C22B34

・真空蒸着やスパッタリングに関する出願が多く見られました（株式会社アルバック様）。その他、チタン化合物（スポンジチタン等）の製造に関する出願なども見られました（東邦チタニウム株式会社様）。

※注：東京・大阪等に本社があり、本社住所で特許出願しているものは含まれません。また、重複カウントがあります（1出願で2以上のFI付与あり）。

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弊所代表は隣町・平塚市の出身です。その他の地域も合わせ、神奈川県には20年近く住みました。
地域の産業の発達に貢献できればと考えておりますので、知的財産のことは何なりとお尋ねください。

よろしくお願いいたします。

オフィス（東京オフィス）

住所：〒105-0013 東京都港区浜松町2-2-15 ダイヤハイツビル2F

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